真空离子电镀

　真空电镀是用于在固体表面上逐原子或逐分子沉积材料层的一系列工艺。这些过程在远低于大气压(即真空)的压力下操作。沉积的层的厚度可以从一个原子的厚度到毫米不等，形成独立的结构。可以使用多层不同的材料，例如形成光学涂层。

　真空离子镀适用于ABS材料和PC材料等产品，主要包括真空蒸发溅射溅射和离子镀。 它们均用于在真空条件下通过蒸馏或溅射在塑料部件的表面上沉积各种金属和非金属薄膜。 这样，可以获得非常薄的表面涂层，并且同时具有速度很高和良好的粘附性的优点。但是价格也比较贵，并且可以操作的金属种类更少。 它们通常用作贵重产品的功能涂料，例如内部屏蔽。

　　真空环境可以用于一个或多个目的：

　　降低粒子密度，使碰撞的平均自由程长

　　降低不良原子和分子(污染物)的颗粒密度

　　提供低压等离子体环境

　　提供控制气体和蒸气成分的方法

　　提供用于控制进入处理室的质量流量的装置。

应用领域：

　　导电：金属膜，透明导电氧化物(TCO)，超导膜和涂层

　　半导体器件：半导体膜，电绝缘膜

　　太阳能电池。

　　光学膜：抗反射涂层，滤光片

　　反光涂料：镜子，热镜

　　摩擦涂层：硬质涂层，抗腐蚀涂层，固体膜润滑剂

　　节能与发电：低辐射率玻璃涂料，太阳能吸收涂料，镜子，太阳能薄膜光伏电池，智能薄膜

　　磁性膜：磁性记录

　　扩散壁垒：气体渗透壁垒，蒸气渗透壁垒，固态扩散壁垒

　　防腐蚀保护：

　　汽车应用：灯反射器和装饰应用

　　小于一微米的厚度通常称为薄膜，而大于一微米的厚度称为涂层。